Microsoft’un desteklediği Norveç merkezli girişim Lace Lithography, çip üretiminde geleneksel ışık tabanlı litografiye alternatif geliştirmek amacıyla 40 milyon dolarlık Seri A yatırımı aldı. 2023’te kurulan şirket, üretim süreçlerinde ışık yerine nötr helyum atomlarından yararlanarak atomik çözünürlükte baskı yapmayı hedefliyor.
Günümüzde gelişmiş çiplerin üretiminde kullanılan litografi sistemleri büyük ölçüde ASML’nin aşırı ultraviyole (EUV) teknolojisine dayanıyor. Ancak EUV sistemleri, kullandıkları ışığın dalga boyu nedeniyle belirli fiziksel sınırlarla karşı karşıya. Lace Lithography ise fotonlar yerine helyum atom ışını kullanarak bu sınırların ötesine geçmeyi amaçlıyor.
Şirketin açıklamasına göre geliştirilen yöntem, ASML’nin 13,5 nanometrelik EUV tarayıcılarında kullanılan ışına kıyasla 135 kat daha dar, yaklaşık 0,1 nanometre genişliğinde bir ışın sağlayabiliyor. Atomların ışıkta görülen kırınım sınırına tabi olmaması, teknolojinin çok daha küçük yapıların işlenmesine imkân tanıyabileceği iddiasının temelini oluşturuyor.
Lace Lithography’nin kurucu ortağı ve Üst Yöneticisi (CEO) Bodil Holst, yaklaşımın çip üreticilerine nihai atomik çözünürlükte baskı yapma olanağı sunabileceğini belirtiyor. Imec’in litografi bilimsel direktörü John Petersen de yöntemin, transistörlerin mevcut ölçümlerin çok daha altına indirilebilmesine kapı aralayabileceğini ifade ediyor.
Şirket, sistemlerini “EUV ötesi” anlamına gelen BEUV adıyla tanımlıyor ve 2029’a kadar bir pilot tesiste test aracını çalıştırmayı planlıyor. Lace Lithography’nin yöntemi elektromanyetik radyasyonu tamamen devre dışı bırakmasıyla sektördeki diğer alternatiflerden ayrılıyor. Substrate ve xLight, EUV ya da X-ışını litografisi için parçacık hızlandırıcılarla desteklenen ışık kaynakları üzerinde çalışırken Canon ve Prinano, daha düşük maliyetli nano-baskı litografisi araçlarına odaklanıyor.
Bununla birlikte, helyum atom ışınına dayalı yaklaşımın önünde önemli teknik ve ticari engeller bulunuyor. Teknolojinin mevcut çip üretim süreçlerine entegre edilmesini sağlayacak hazır bir ekosistemin henüz bulunmaması, şirketin aşması gereken başlıca zorluklar arasında yer alıyor. Laboratuvar aşamasından seri üretime geçişin, ASML’nin geçmişte yaşadığı sürece benzer şekilde uzun ve milyarlarca dolarlık bir yatırım gerektirebileceği değerlendiriliyor.
